重庆摩尔水处理设备有限公司

半导体超纯水设备

2019-12-27 14:21:17 投稿人 : moer_admin 围观 : 65 次 0 评论

半导体超纯水设备.jpg

一、技术要求

产水压力:0.4MPa

产水水质:按ASTM D5127-2013 E-1.1级的水质标准

                           产水水质标准

序号

名  称

单  位

数据

备注

1

电阻率(25℃

MΩ.CM

182


2

TOC

μg/L

2


3

溶解氧

μg/L

10


4

蒸发残渣

μg/L

0.5


5

在线颗粒/升(微米)




6

0.050.1

1000

在线监测

7

0.10.2

350

在线监测

8

0.20.5

100

在线监测

9

0.51.0

50

在线监测

10

1.0

20

在线监测

11

SEM颗粒检测/升(微米)




12

0.10.2

700


13

0.20.5

400


14

0.51.0

50


15

10

30


16

细菌/100mL




17

100mL取样

3


18

总硅

μg/L

3


19

溶解硅

μg/L

1


 

运行要求:年连续运转8000小时

管阀材质:采用进口PVDF超纯型管道阀门,热熔对焊。

 

二、产品先进性分析

 

设备回收率:EDI装置回收率≥90%EDI浓水全部回流至厂区除盐水系统原水箱。

设备控制:采用PLC+上位机全自动运行方式,同时可手动运行,系统带自检功能,声光报警。系统运行参数可存储,可打印。正常运行为自动,检修为手动,可实现无人值守。系统运行实况可于在线流程模拟屏上实时显示,如水箱液位的具体高度,增压泵出口压力,产水流量,EDI产水电阻率,产水流量,抛光混床产水电阻率、产水流量以及终端产水电阻率、在线监测微粒数等参数。

供水方式:超纯水系统供水采用不间断循环供水方式,回路设计背压阀保持循环量。


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